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上海實驗室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積

產品簡介

上海實驗室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積通過反應氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點,工藝流程簡單,與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較,生長溫度更低,管輝光均勻等效,薄膜均勻沉積。

產品型號:
更新時間:2023-12-21
廠商性質:生產廠家
訪問量:1378

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品牌鄭科探應用領域電子

PECVD簡介

   上海實驗室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積PECVD是借助于輝光放電等方法產生等離子體,輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態(tài)物質發(fā)生化學反應,從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術。

  上海實驗室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積通過反應氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點,工藝流程簡單,與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較,生長溫度更低,管輝光均勻等效,薄膜均勻沉積。

上海實驗室PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積

KT-PE150S  性能數(shù)

型號

KT-PE150S

KT-PE500Z

13.56MHz±0.005%

出范

0-150W

0-500W

功率穩(wěn)定度

5W

射功

40W

出接

7/16,female  50 Ω

穩(wěn)定度

5W

匹配方式

手動調節(jié)匹配

500W自動匹配

耦合方式

電感式耦合

輝光壓力

30Pa

50/60Hz 220v±10%

70%

強制風冷

支持爐管直徑

φ25-φ80

φ25-φ150

感應區(qū)

210mm

48KG

:H x W x D(mm)

600 x 600x 1100



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